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自1980年以來，類金剛石涂層作為新型鍍膜技術(shù)一直廣受歡迎，而我國(guó)在這方面也取得了一些進(jìn)展，但與發(fā)達(dá)國(guó)家相比仍然還有差距。

類金剛石涂層目前有很多種類，一般類金剛石涂層分為氫化類金剛石碳膜(a-C：H)和無氫類金剛石碳膜(a-C)兩大類，由于其結(jié)構(gòu)工藝機(jī)理極為復(fù)雜，目前DLC涂層在高溫下會(huì)出現(xiàn)穩(wěn)定性問題，比如在超過400度后DLC涂層會(huì)存在很大的內(nèi)應(yīng)力，也會(huì)降低其結(jié)合力，會(huì)是的DLC膜層出現(xiàn)起皺，脫落。

但是這也阻擋不了DLC涂層由于特殊的結(jié)構(gòu)，兼?zhèn)溷@石性能，所以它同時(shí)也擁有很多優(yōu)異的性能，比如DLC涂層的抗磨性、化學(xué)惰性、沉積溫度低、膜面光滑，可以將其作為一些電子產(chǎn)品的保護(hù)膜。

類金剛石DLC在電子行業(yè)的應(yīng)用

如噴墨打印機(jī)墨盒加熱層上、磁存儲(chǔ)器的表面、電器中的音膜、半導(dǎo)體行業(yè)的電路板加一層類金剛石膜 DLC 保護(hù)層、不僅能有效的減少機(jī)械損傷，又不影響數(shù)據(jù)存儲(chǔ)。

類金剛石膜具有電阻率高、絕緣性強(qiáng)、化學(xué)惰性高和低電子親和力等性能。人們將類金剛石膜用作光刻電路板的掩膜，不僅可以避免操作過程中的機(jī)械損傷，還可以在去除薄膜表面的污染物允許用較激烈的機(jī)械或化學(xué)腐蝕方法，且且同時(shí)不會(huì)破壞薄膜的表面。

采用類金剛石膜和碳膜交替出現(xiàn)的多層膜結(jié)構(gòu)構(gòu)造成的多量子阱結(jié)構(gòu)，具有共振隧道效應(yīng)的和獨(dú)特的電特性，在微電子領(lǐng)域有著潛在的應(yīng)用前景。類金剛石膜具有良好的表面平面光滑度，電子發(fā)射均勻性好，即使在較低的外電場(chǎng)作用下，也可產(chǎn)生較大的發(fā)生電流，這個(gè)性能在平板顯示器中有著特殊的使用價(jià)值。