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類金剛石薄膜DLC的特性與應用
來源:技術支持 | 發(fā)布日期:2023-10-19

   金剛石、類金剛石薄膜技術,是指利用各種光學薄膜制作技術制作接近天然金剛石和人造單晶金剛石,有些范圍光的吸收率低到 1%;具有很高的硬度、良好的導熱性、耐腐蝕性以及化學穩(wěn)定性高--1000C(攝氏度)以上仍保持其化學穩(wěn)定性等特性。類金剛石碳(DLC)涂層的主要成分為碳是一種兼有高硬度和優(yōu)異摩擦性能的非晶體硬質(zhì)薄膜,一種非晶亞穩(wěn)態(tài)結構DLC的成份主要指sp3鍵和sp~2鍵,還可能含有一些雜質(zhì)相如C-H

精密小零件鍍DLC

一、DLC薄膜性能

1、機械性能:高硬度和高彈性模量、優(yōu)異的耐磨性、低摩擦系

2、DLC中氫的含量超過40%門限時能獲得很低的摩擦系數(shù),但過多的氫存在將降低膜與基體的結合力和表面硬度,使內(nèi)應力增大。

3、電學性能:表面電阻高化學惰性大光學性能:DLC膜在可見光區(qū)通常是吸收的,在紅外區(qū)具有很高的透過率

4、穩(wěn)定性;亞穩(wěn)態(tài)的材料,熱穩(wěn)定性很差, 400攝氏度

二、DLC薄膜應用

1、機械應

用于防止金屬化學腐蝕和劃傷方面,磁介質(zhì)保護膜

2、電子領域的應用

ULSI芯片的制造:光刻電路板的掩膜ULSIBEOL(線后端)互聯(lián)結構的低K值的材料碳膜和DLC膜交替出現(xiàn)的多層結構構造共振隧道效應的多量子阱結構DLC可作為平面板場發(fā)射顯示FED的電子發(fā)射器

3.光學領域的應用

用在鍺光學鏡片上和硅太陽能電池上作為減反射膜塑料和聚碳酸脂等低熔點材料組成的光學透鏡表面抗磨損保護層DLC膜為性能極佳的發(fā)光材料之一: 光學隙帶范圍寬,室溫下光致發(fā)光和電致發(fā)光率都很高

4.醫(yī)學領域的應用

在人工心臟瓣膜的不銹鋼或欽合金表面沉積DLC膜能同時滿足機械性能、耐腐蝕性能和生物相溶性要求人工關節(jié)承受面的抗磨層

三、DLC薄膜制備方法

物理氣相沉積

1、離子束沉積(IBD):采用等離子體濺射石墨靶形成大量的碳離子并通過電磁場加速使碳離子沉積于基體表面形成DLC

2、濺射沉積 特點:沉積的離子能量范圍寬,主要分為: 直流濺射、射頻濺射、磁控濺射

3、磁過濾陰極弧沉積

4、脈沖激光沉(PLD):

多功能的工藝方法,可以用來沉積從高溫超導體到硬質(zhì)涂層等多種不同性質(zhì)的材料。

【責任編輯】小編

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