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不銹鋼模具鍍WCC涂層

頭 條不銹鋼模具鍍WCC涂層

WCC涂層是摻鎢含氫非晶碳(a-C:H:W)DLC涂層。與其他元素相比較而言,這種W-DLC涂層數(shù)字較低(通常在干式情況下為0.1~ 02),因此具備出眾耐磨損性能以及優(yōu)異耐轉(zhuǎn)動接觸疲勞性能。納隆公司生產(chǎn)的此類W-DLC涂層典型沉積溫度低于280°C, 可以在不軟化熱敏性鋼 (如100Cr6) 的條件下完成其鍍膜過程 。

Ta-c涂層是一種硬度高達(dá)5000HV的七彩DLC涂層

Ta-c涂層是一種硬度高達(dá)5000HV的七彩DLC涂層

Ta-c涂層是一種無氫碳元素涂層,被稱作四面體非晶體金剛石涂層。其sp2與sp3鍵的比值較高。其 Sp3金剛石含量可達(dá)65~85%之間,維氏硬度可達(dá) 5000-7000HV。Ta-c具有一定的透明度。當(dāng)涂層厚度小于1pm時,工件會由于光干涉作用而呈現(xiàn)彩虹色彩。隨著涂層厚度的增加,顏色會變?yōu)榛液谏?。由于Ta-c涂層良好的抗粘結(jié)性和高硬度使其在模具和切削工具行業(yè)發(fā)揮著重要的作用。Ta-c超級類金剛石圖層)有人也叫彩色DLC涂層,或者也有人叫做無氫DLC涂層,DLC七彩涂層,彩色ta-c涂層等…
熱膨脹系數(shù)是影響離子束DLC膜層擁有減摩/潤滑/防腐蝕等性能強(qiáng)弱

熱膨脹系數(shù)是影響離子束DLC膜層擁有減摩/潤滑/防腐蝕等性能強(qiáng)弱

DLC膜層是一種由碳元素構(gòu)成的類似鉆石的碳薄膜,具有優(yōu)異的硬度、耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性。在許多領(lǐng)域中,DLC膜層被廣泛應(yīng)用于減摩、潤滑、防腐蝕等方面。然而,熱膨脹是 DLC膜層應(yīng)用過程中需要考慮的一個重要因素。
刀具DLC表面涂層技術(shù)降低潤滑油使用,減少環(huán)境污染

刀具DLC表面涂層技術(shù)降低潤滑油使用,減少環(huán)境污染

DLC表面涂層技術(shù)對于切削刀具所帶來非常多的益處,可大幅度提高切削刀具壽命,有效地提高切削加工效率,有效地減少刀具材料的消耗,降低加工成本,減少潤滑液的使用,降低成本,利于環(huán)境保護(hù)。
類金剛石鍍膜—金屬表面摩擦減少40%

類金剛石鍍膜—金屬表面摩擦減少40%

類金剛石(DLC)涂層才首次見諸報道。工業(yè)上應(yīng)用這種涂層起源于汽車部件,如高壓柴油噴射系統(tǒng)和動力傳動部件。當(dāng)今,具有特殊優(yōu)勢的各種DLC涂層已在一些領(lǐng)域得到應(yīng)用。
類金剛石石墨膜(DLC)表面處理解決方案

類金剛石石墨膜(DLC)表面處理解決方案

DLC是一種由碳元素構(gòu)成在性質(zhì)上和鉆石類似同時又具有石墨原子組成結(jié)構(gòu)的物質(zhì),類金剛石薄膜(DLC)涂層,是一種非晶態(tài)薄膜,由于具有高硬度和高彈性模量低摩擦因數(shù),耐磨損以及良好的真空摩擦學(xué)特性。
磁控濺射DLC類金剛石涂層行業(yè)應(yīng)用成功案例

磁控濺射DLC類金剛石涂層行業(yè)應(yīng)用成功案例

DLC涂層它是一種新型的硬質(zhì)潤滑功能涂層材料,由于具有SP2和SP3電子軌道雜化的碳原子空間網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu),使得DLC涂層具有較高的硬度、優(yōu)異的減摩耐磨性能、高熱導(dǎo)率、低介電常數(shù)、寬帶隙、良好的光學(xué)透過性以及優(yōu)異的化學(xué)惰性和生物兼容性等特性,DLC涂層適合于磨損和滑動的環(huán)境下,在沒有任何潤滑介質(zhì)的條件下,可以降低摩擦損耗。
類金剛石(DLC)涂層與TD涂層的區(qū)別

類金剛石(DLC)涂層與TD涂層的區(qū)別

類金剛石(DLC)涂層是一種由碳元素構(gòu)成、在性質(zhì)上和鉆石類似,同時又具有石墨原子組成結(jié)構(gòu)的涂層物質(zhì),是一種非晶態(tài)薄膜,具有高硬度和高彈性模量、低摩擦因數(shù)、耐磨損以及良好的真空摩擦特性。
DLC類金剛石涂層在模具中的應(yīng)用

DLC類金剛石涂層在模具中的應(yīng)用

DLC類金剛石是一種由碳構(gòu)成的物質(zhì),性質(zhì)類似于金剛石,具有石墨原子的結(jié)構(gòu)。類金剛石薄膜(DLC)是一種非晶態(tài)薄膜,由于其具有高硬度、高彈性模量、低摩擦系數(shù)、耐磨性和良好的真空摩擦學(xué)性能,適合作為耐磨涂層,引起了摩擦學(xué)領(lǐng)域的廣泛關(guān)注。目前制備類金剛石薄膜的方法很多,如真空蒸發(fā)法、濺射法、等離子體輔助化學(xué)氣相沉積法、離子注入法等。