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PVD物理氣相沉積采用低電壓大電流的電弧放電技術(shù)，通過荷能粒子的轟擊，將其吸引并沉積到工件表面形成3~5um的超硬薄膜層。利用PVD法可在工件表面沉積類金剛石dlc、氮化鈦TiN、氮化鉻CrN、DLC、TiAIN等單層多層復(fù)合涂層。

離子束DLC:碳?xì)錃怏w在離子源中被離化成等離子體，在電磁場(chǎng)的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調(diào)整加在等離子體上的電壓來控制。碳?xì)潆x子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧涂層的離子束源采用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結(jié)合力很好;離子電流更大，使得DLC 膜的沉積速度更快。

DLC膜層是一種由碳元素構(gòu)成的類似鉆石的碳薄膜，具有優(yōu)異的硬度、耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性。在許多領(lǐng)域中，DLC膜層被廣泛應(yīng)用于減摩、潤滑、防腐蝕等方面。然而，熱膨脹是 DLC膜層應(yīng)用過程中需要考慮的一個(gè)重要因素。

由于DLC膜層中含有較高比例的碳元素，其熱膨脹系數(shù)通常較低。這是因?yàn)樘荚氐脑影霃捷^小，原子間的結(jié)合力較強(qiáng)，使得DLC層在溫度變化下的膨脹程度較小。此外，DLC膜層中還可能摻雜其他元素，如氫、氮、硅等，這些元素的加入會(huì)對(duì)膨脹系數(shù)產(chǎn)生一定的影響。

DLC膜層參數(shù)

1.硬度極高(超過Hv2000-Hv4500):代表耐性極好;

2.摩擦系數(shù)低(DLC=0.04):改善拉伸五金沖壓、成型的潤滑問題;

3.耐高溫(最高達(dá)到350℃):不容易氧化，改善干切削和壓鑄成型問題;化學(xué)屏障/導(dǎo)熱率低:可有效防止因高溫導(dǎo)致硬質(zhì)合金刀具的鉆元素流失:改善壓鑄出現(xiàn)的熱龜裂問題;

4.厚度可控制在1-5微米以內(nèi):涂層后不影響產(chǎn)品的最終尺寸