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DLC涂層就是類金剛石涂層，具有高硬度、耐磨損、低摩擦系數(shù)、良好的化學(xué)穩(wěn)定性及高透光率等優(yōu)異性能，得到廣泛應(yīng)用。DLC涂層按照成分可以分為含氫DLC涂層和無氫DLC涂層，含氫DLC涂層主要采用化學(xué)氣相沉積（CVD）方法沉積，含有大量飽和sp3鍵的氫元素，使用過程中經(jīng)常由于氫逸出導(dǎo)致性能退化。而無氫DLC涂層中sp3鍵全部由碳原子組成，結(jié)構(gòu)上更加穩(wěn)定可靠，使用效果更好。那么，常用無氫DLC涂層制備方法有哪些呢？如果想獲得較厚的膜層，該使用怎樣的方法制備呢？下面，納隆小編為大家解析一下上述問題吧。

一、常用的無氫DLC涂層沉積制備方法分類 

1、電弧離子鍍

　電弧離子鍍是1964年首先公開了所發(fā)明的技術(shù)。它是在蒸發(fā)鍍膜的同時，用來源于等離子體的離子轟擊膜層。在上世紀(jì)70年代諸多電弧離子鍍技術(shù)相繼實(shí)用化，主要用于制備刀具涂層。
　　電弧離子鍍技術(shù)屬于冷場致弧光放電，制備過程如下：
　　工件經(jīng)清洗入爐后抽真空。當(dāng)真空度達(dá)到6X10 -3 Pa后，開啟烘烤加熱電源，對工件進(jìn)行加熱。達(dá)到一定溫度后，通入氨氣，真空度降至（3～5）×10-1Pa。接通工件偏壓電源，電壓調(diào)至100~200V。此時產(chǎn)生輝光放電，從陰極弧源表面發(fā)射出碳原子和石墨原子。在工件負(fù)偏壓的作用下，沉積到工件形成DLC底層，以提高類金剛石涂層的附著力。

2、離子輔助沉積

　　離子輔助沉積技術(shù)英文縮寫IAD，是一種真空蒸發(fā)為基礎(chǔ)的輔助沉積方法。是借助少量高能離子及大量高能中子的連續(xù)作用，將金屬或金屬化合物蒸氣沉積在工件的一種表面處理過程。
　　真空蒸發(fā)鍍膜過程中沉積的原子或者分子在基體表面的有限遷移率形成柱狀的薄膜結(jié)構(gòu)，所以在沉積的過程中對生長的薄膜利用離子源轟擊，將離子的動量傳給沉積的原子或分子，使沉積的分子或者原子的遷移率得到提高，從而抑制了柱狀結(jié)構(gòu)的生長，使得光學(xué)介質(zhì)薄膜的密度增加，光學(xué)性能進(jìn)一步提高。

3、濺射沉積

　　濺射沉積是用高能粒子轟擊靶材表面，通過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其他粒子，使靶材中的原子濺射出來，沉積在基底表面形成薄膜的方法。
　　濺射沉積技術(shù)具有可實(shí)現(xiàn)大面積快速沉積，無氫DLC薄膜與基體結(jié)合力好，濺射密度高、針孔少，膜層可控性和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)，且任何物質(zhì)都可以進(jìn)行濺射，因而近年來發(fā)展迅速，應(yīng)用廣泛。

二、含氫DLC涂層制備辦法還有一種叫物理氣相堆積(PVD)。

物理氣相堆積制備DLC薄膜，通過高溫蒸騰，氣體離子濺射石墨靶材，使碳以離子或原子的方式堆積于基體上成膜，這種薄膜外表粗糙，結(jié)合力差，工業(yè)應(yīng)用效果不明顯。離子束堆積(IBD)、磁控濺射、陰極電弧技能和脈沖激光堆積(PLD)等，均能夠制備外表細(xì)密潤滑、內(nèi)應(yīng)力小、附著力強(qiáng)、摩擦系數(shù)較小的類金剛石涂層。

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